Вы можете ознакомиться с характеристиками и купить товар "PELCO® Tripod Polisher™ 590" по выгодной цене, которую следует уточнить, сделав запрос.
PELCO® Tripod Polisher™ 590 был разработан исследователями из лаборатории IBM East Fishkill* для точной подготовки образцов для ТЭМ и РЭМ с заранее определенными областями микронного размера. Для образцов ТЭМ эта технология была успешно использована для ограничения времени ионного фрезерования до менее чем 15 минут, а в некоторых случаях и устраняла необходимость в ионном фрезеровании. Хотя эта техника была разработана для подготовки поперечных срезов полупроводников, она использовалась для подготовки образцов как в плане, так и в поперечном сечении из таких различных материалов, как керамика, композиты, металлы и геологические образцы.
PELCO® Tripod Polisher™ 590 можно использовать для подготовки образца к анализу поперечного сечения как в РЭМ, так и в ТЭМ. Для этого образец устанавливается на поверхность специальной шпильки SEM, которая зажимается в щелевой L-образный кронштейн прибора. Первоначальная шлифовка производится на алмазном диске с металлической связкой диаметром 15 мкм. Дальнейшая притирка и полировка продолжается с помощью последовательности алмазных пленок размером от 30 мкм до 0,5 мкм. Окончательная полировка производится с помощью суспензии коллоидного кремнезема. По мере притирки два задних микрометра используются для регулировки плоскости полировки.
При периодических осмотрах в инвертированном микроскопе плоскость полировки регулируется до тех пор, пока она не станет параллельной интересующей плоскости. В этот момент шпильку SEM можно переместить в ионную мельницу для быстрого фрезерования для удаления мелких царапин, остатков полировки и придания необходимой топографии поверхности перед анализом СЭМ. Шпильку можно установить непосредственно в электронный микроскоп для анализа.
По окончании анализа делается образец для ТЭМ той же области. Образец снимается со шпильки РЭМ и крепится к одноапертурной решетке РЭМ. Щелевой L-образный кронштейн снимается, и сетка ТЭМ крепится к круглому держателю образца, который прикреплен к центру полировальника. Теперь образец механически истончается с помощью алмазной притирочной пленки. Во время этого процесса образец периодически осматривается в инвертированный микроскоп, а микрометры регулируются для поддержания правильной плоскости полировки. Образец окончательно полируется до 1 мкм или менее, а затем подвергается ионному фрезерованию в течение 15 минут.
Преференциальное утончение и рельеф поверхности, возникающие в образцах с кратковременным ионным фрезерованием, затрудняют изучение границ раздела между разнородными материалами. Эти проблемы можно уменьшить, полностью исключив этап ионного фрезерования и механически отполировав образец до прозрачности для электронов с помощью клиновой техники.
В этом методе шпилька SEM заменяется в щелевой L-образной скобе вставкой из Pyrex®. Образец устанавливается на лицевую сторону этой вставки. После получения интересующей плоскости образец удаляется и устанавливается на нижнюю часть вставки Pyrex®. Два задних микрометра настраиваются, и ближайший к образцу микрометр втягивается для получения клиновидной формы по мере удаления материала с образца.
Образец с интересующими элементами на вершине клина утончается с обратной стороны до тех пор, пока толщина интересующего края не достигнет ~1 мкм. Затем образец обрабатывается на ткани для окончательной полировки, такой как наша ткань MultiTex Cloth (номер продукта 816-12) с суспензией коллоидного диоксида кремния до тех пор, пока не будут видны границы толщины (менее нескольких тысяч ангстрем). Затем образец извлекается из вставки Pyrex® и прикрепляется к одноапертурной решетке ТЭМ для анализа.
Включает: База с 3 микрометрическими узлами, набор шестигранных драйверов, воск для крепления образцов, кейс, принадлежности 590TEM, перечисленные в таблице ниже
Включает: Основание с 2 микрометрическими узлами, набор шестигранных драйверов, воск для крепления образцов, кейс, принадлежности 590SEM, перечисленные в таблице ниже
Включает: База с 3 микрометрическими узлами, набор шестигранных драйверов, воск для крепления образцов, кейс, принадлежности 590TS, перечисленные в таблице ниже
Аксессуары |
PELCO® Tripod Polisher™590TEM |
PELCO® Tripod Polisher™590SEM |
PELCO® Tripod Polisher™590TS |
|
59306 |
Клиновая полировальная насадка |
1 |
- |
1 |
59307 |
Г-образный кронштейн с пазом |
1 |
1 |
1 |
59308 |
Pyrex® клиновой полировальный стержень |
1 |
- |
1 |
59310 |
Вставка Pyrex® большая |
1 |
- |
1 |
59312 |
Блок нагревателя |
1 |
- |
1 |
59313 |
SEM Stub |
- |
4 |
4 |
59314 |
Стеклянный нивелир |
2 |
2 |
2 |
59315 |
Подставка для микроскопа |
1 |
1 |
1 |
59316 |
Лапка Delrin® для микрометра |
3 |
2 |
3 |
№ Прод. |
Описание |
---|---|
59350 |
Стартовый комплект PELCO® Tripod Polisher™ 590 |
|
Нижеследующие компоненты также могут быть куплены отдельно: |
814-457 |
Алмазная пленка 30 мкм, 8", PB |
814-456 |
Алмазная пленка 15 мкм, 8", PB |
814-454 |
Алмазная пленка 6 мкм, 8", PB |
814-452 |
Алмазная пленка 1 мкм, 8", PB |
814-451 |
Алмазная пленка 0,5 мкм, 8", PB |
816-12 |
Ткань MultiTex, 8", PSA, pkg/10 |
59317 |
Стеклянная пластина, 8" x 0,25" |
815-120 |
Коллоидный диоксид кремния 0,05 мкм, 160z. |
892-45 |
Монтажный воск, 135 |
1GC450 |
Щелевые сетки TEM, кг/100 |
17395 |
Очиститель образцов, 4 унции. |
80915 |
Хлопчатобумажные тампоны, pkg/50 |
14005 |
Чашка Петри |
14012 |
Фильтровальная бумага |
5398 |
Набор пинцетов |
80932 |
3M™ Scotch™ Pad |
81450 |
Сквиджи |